HI84100采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例,當(dāng)有氧存在時(shí)將最先與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。*基于微電腦控制技術(shù),集滴定分析,磁力攪拌和電極測(cè)量于一體。*性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單,可直接顯示測(cè)量結(jié)果。*人性化設(shè)計(jì),具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能。*殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度。*通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。*當(dāng)殘留濃度超過(guò)2.0ppm時(shí),即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。測(cè)量項(xiàng)目 二氧化硫量程 0to400ppmofSO2解析度 1ppm精度 讀數(shù)的5%測(cè)量方法 滴定法測(cè)量原理 等電位氧化還原滴定法取樣量 50mLORP電極 HI3148B泵流量 0.5mL/min攪拌速率 1500rpm適用環(huán)境 0to50 C(32to122 F);max95%RH無(wú)冷凝供電方式 220V/60Hz;10VA尺寸重量 208x214x163mm;2200g