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公司基本資料信息
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產(chǎn)品型號:WK-68
種類:鍍鎳添加劑 | 類別:光亮劑 |
執(zhí)行標準:12%V/V | 主要用途:出光速度快 |
WK-680光亮滾鍍鎳工藝
一.特點
WK-光亮鍍鎳工藝是一種優(yōu)越的鍍鎳工藝,其有以下特點:
1.鍍層光亮如鏡,色澤白亮美觀
2.鍍層低電流密度區(qū)填性良好,柔軟性佳,沉積速度快。
3.生產(chǎn)過程中,添加劑分解產(chǎn)物少,消耗量低。
4.鍍液穩(wěn)定,容易控制。
5.適合作為滾鍍青銅.金.銀等金屬之光亮底層或滾鍍鎳之產(chǎn)品。
二.溶液組成及操作條件
原料與操作條件 | 范圍 | 標準開缸量 |
硫酸鎳 | 180-220克/升 | 260克/升 |
氯化鎳 | 50-60克/升 | 55克/升 |
硼酸 | 40-50克/升 | 45克/升 |
WK-680光亮劑 | 0.3-0.5毫升/升 | 0.4毫升/升 |
WK-680走位劑 | 5-8毫升/升 | 6毫升/升 |
溫度 | 55-650C | 580C |
PH值 | 4.0-4.4 | 4.2 |
陰極電流密度 | 2-8安培/平方分米 | 4.5安培/平方分米 |
攪拌 | 滾桶回轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速6-8轉(zhuǎn)/分鐘 | |
過濾 | 連續(xù)循環(huán)過濾 |
三.鍍液配制
1.注入三分之二的純水于鍍缸中,加熱到60℃
2.加入所需的硫酸鎳.氯化鎳攪拌使其充分溶解
3.用碳酸鎳或氫氧化鈉調(diào)整PH值為5.2
4.加入2-3毫升/升的雙氧水打氣攪拌2小時以上
5.加入2-4克/升的活性炭粉攪拌3-5小時后.靜置整晚
6.用過濾泵將鍍液過濾干凈
7.加入所需的硼酸,攪拌使其完全溶解,用稀硫酸調(diào)整PH為4.0-4.4
8.用波浪狀的電解板(滾桶內(nèi)裝廢品)低電流電解(0.1-0.5A/dm2)連續(xù)電解6小時以上,直至電解板低電流密度區(qū)由暗黑變?yōu)闇\灰色.
9.加入鎳添加劑試鍍
四.設(shè)備
1.鍍缸: PP PVC或鋼鐵內(nèi)襯塑料
2.溫度控制:可用蒸氣.鈦或石英電筆加熱
3.攪拌:滾桶回轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速6-8轉(zhuǎn)/分鐘
4.過濾:循環(huán)過濾,其過濾量應(yīng)為3-5個循環(huán)量
5.陽極:鎳板.鎳塊或鎳角,需套陽極袋
五.轉(zhuǎn)缸
由一般光亮鍍鎳轉(zhuǎn)為WK680-光亮鍍鎳工藝的程序非常簡單,但因各電鍍廠所采用的鎳光亮劑不同,鍍液內(nèi)所含的各種雜質(zhì)也有分別,故不能統(tǒng)一歸納轉(zhuǎn)缸方法,轉(zhuǎn)缸時應(yīng)咨詢本公司技術(shù)部.
六.組成原料的功用
硫酸鎳:是提供鎳離子的主要來源,沉積在鍍件上的金屬鎳就是由鎳離子還原的
氯化鎳:提供氯離子來幫助陽極溶解,減少陽極極化現(xiàn)象,增加鍍液的導(dǎo)電性,并使陽極有較高的電流密度,同時也提供鎳離子.
硼酸:具有緩沖作用,可以穩(wěn)定鍍液的PH值,硼酸過低,鍍層會有針孔,脆性大;硼酸過高陽極袋會因硼酸的結(jié)晶而堵塞,間接增大電阻.
七.添加劑的作用和補充
1.光亮劑:是主要光亮劑,決定鍍層的光亮度及填平性;若使用較低電流密度時,其補加量應(yīng)大些.
2.走位劑:其作用是降低鍍層內(nèi)應(yīng)力,增加鍍層柔軟性及使低電流密度區(qū)的覆蓋能力良好。同時也是提高溶液對較高水平光亮劑的容忍度.
各添加劑的添加應(yīng)采取少加勤加為準,消耗量如下
WK-680光亮劑 | 150-200ml/KAH |
WK-680走位劑 | 200-300ml/KAH |
八.雜質(zhì)影響
污染原因 | 現(xiàn)象 | 處理方法 |
銅 | 1.低電流密度區(qū)生成帶紅色之黑色光亮鍍層 2.鍍層被覆蓋力下降 | 1.添加0.1-0.5毫升/升的除銅水 2.低電流電解處理 |
鐵 | 1.鍍層粗糙 2.產(chǎn)生針孔 3.鍍層平滑度下降 | 1.添加1-2克/升的除鐵粉 2.低電流電解處理 |
鋅 | 1.低電流密度區(qū)生成帶黑色之光亮鍍層 2.鍍層被覆蓋力下降 | 1.添加0.1-0.5毫升/升的除雜水 2.低電流電解處理 |
九.鍍液故障及解決方法
不良現(xiàn)象 | 原因 | 處理方法 |
高電流密度區(qū)發(fā)暗,鍍層光亮度填平性差 | 柔軟劑不足 | 以1毫升/升增加量添加柔軟劑,直到鍍層恢復(fù)正常 |
低電流密度區(qū)發(fā)黑 | 1.光亮劑過量 | 1.電解消耗或調(diào)整各添加劑成分 |
2.PH值過高 | 2.調(diào)整PH值 | |
3.有機雜質(zhì)污染 | 3.活性炭處理,過濾 | |
鍍層燒焦 | 1.鍍液溫度過低 | 1.提高溫度到55-65℃ |
2.鍍液濃度低 | 2.分析補加主鹽 | |
3.陽極面積不足 | 3.增加陽極面積 | |
4.PH值過高 | 4.調(diào)整PH值 | |
鍍層粗糙 | 1.鍍液中有固體顆粒 | 1.加強過濾,找出污染源,加以排除 |
2.鐵雜質(zhì)污染 | 2.用雙氧水氧化后,沉淀除去 | |
鍍層脫皮 | 1.光亮劑過量 | 1.減少添加量或炭粉處理 |
2.雜質(zhì)污染 | 2.依照霍氏槽打片判斷,并除去 | |
3.前處理不良 | 3.加強前處理 | |
4.活化不足 | 4.檢查活化酸及洗水 | |
鍍層發(fā)脆有針孔 | 鐵雜質(zhì)污染 | 添加1-2克/升除鐵粉 |
鍍層亮灰色或有黑色條紋 | 鋅雜質(zhì)污染 | 加0.5毫升/升的除雜水或電解處理 |
鍍層低電流密度區(qū)呈黑粉狀 | 銅雜質(zhì)污染 | 加0.5毫升/升的除雜水或電解處理 |