A96191 蒸鍍、真空蒸鍍技術(shù)工藝配方及設(shè)備專利大全 （本輯320元，含下列113項(xiàng)；）（特別提示：本站的專利文獻(xiàn)均已被編成word格式，這在業(yè)內(nèi)獨(dú)樹一幟。）01、真空蒸鍍機(jī)臺的蒸鍍源裝置及其蒸鍍方法02、真空蒸鍍設(shè)備及其防附著結(jié)構(gòu)03、蒸鍍裝置04、SiO蒸鍍材料、原料用Si粉末及SiO蒸鍍材料的制造方法05、SiO蒸鍍材料、SiO原料用Si粉末及SiO的制造方法06、蒸鍍設(shè)備及其蒸鍍源更換方法07、MgO蒸鍍材料08、有機(jī)材料用蒸發(fā)源及有機(jī)蒸鍍裝置09、蒸發(fā)裝置、蒸鍍裝置以及蒸鍍裝置中的蒸發(fā)裝置的切換方法10、電鍍或者蒸鍍處理用凹凸粒子11、用于蒸鍍設(shè)備的干冰洗凈法12、真空蒸鍍裝置和真空蒸鍍方法13、MgO蒸鍍材料14、蒸鍍設(shè)備及蒸鍍方法15、蒸發(fā)源和具備蒸發(fā)源的蒸鍍裝置16、蒸鍍二氧化硅保護(hù)膜方法17、真空蒸鍍制備鋁－銅－鐵準(zhǔn)晶涂層的方法18、校正系統(tǒng)、垂直型盤移送裝置和具有該裝置的蒸鍍裝置19、利用部分蒸鍍可精細(xì)地轉(zhuǎn)印花紋的轉(zhuǎn)印膜20、使用等離子CVD法形成的化學(xué)蒸鍍膜及其形成方法21、一種有機(jī)發(fā)光顯示器蒸鍍用掩膜的電鑄制作方法22、偏轉(zhuǎn)磁場型真空電弧蒸鍍裝置23、蒸發(fā)源組件及使用該組件的蒸鍍裝置24、多真空蒸鍍裝置及其控制方法25、屏蔽、應(yīng)用其的蒸鍍裝置和顯示面板制造方法26、一種蒸鍍模板及其應(yīng)用27、有機(jī)場致發(fā)光膜蒸鍍用蒸鍍源28、物理氣相沉積蒸鍍機(jī)的被鍍物固持裝置29、真空蒸鍍裝置和電光裝置的制造方法30、化學(xué)蒸鍍裝置31、物理氣相沉積蒸鍍機(jī)的磁性過濾裝置32、單位層后處理催化化學(xué)蒸鍍裝置及其成膜方法33、自潔式催化化學(xué)蒸鍍裝置及其清潔方法34、真空蒸鍍機(jī)35、利用蒸鍍夾具的手機(jī)外殼EMI層真空蒸鍍方法及夾具36、高溫超導(dǎo)薄膜雙面蒸鍍技術(shù)及其裝置37、有機(jī)EL元件制造用蒸鍍裝置的室內(nèi)的清洗方法38、真空蒸鍍機(jī)39、 型晶體結(jié)構(gòu)為主體的氧化鋁被膜制造方法、 型晶體結(jié)構(gòu)為主體的氧化鋁被膜和含該被膜的疊層被膜、以該被膜......40、蒸鍍工序用噴嘴蒸發(fā)源41、蒸鍍裝置及利用該蒸鍍裝置的蒸鍍方法42、金屬蒸鍍薄膜電容器43、蒸發(fā)源和采用該蒸發(fā)源的蒸鍍裝置44、金屬氧化物被膜的成膜方法及蒸鍍裝置45、有機(jī)場致發(fā)光膜蒸鍍用蒸鍍源46、多晶MgO蒸鍍材料47、真空蒸鍍裝置及蒸鍍薄膜制造方法48、直接蒸鍍用樹脂組合物、使用該組合物的模塑制品以及表面金屬化處理的燈罩49、有機(jī)物蒸鍍裝置50、供金屬蒸鍍的高光澤紙的制作方法51、有機(jī)物蒸鍍裝置52、等離子體顯示器之前基板的制造方法、蒸鍍工藝與蒸鍍裝置53、蒸鍍遮罩54、CVD用原料化合物及其制造方法及銥或銥化合物薄膜的化學(xué)氣相蒸鍍法55、掩模蒸鍍方法及裝置、掩模及其制造方法、顯示板制造裝置56、蒸鍍裝置57、改進(jìn)型蒸鍍方法58、用于制作有機(jī)電致發(fā)光顯示器的蒸鍍裝置59、直接蒸鍍用樹脂組合物、使用該組合物的模塑制品以及表面金屬化處理的燈罩60、蒸鍍膜61、真空蒸鍍用掩模及用其制造的有機(jī)電致發(fā)光顯示器面板62、一氧化硅蒸鍍材料及其制造方法63、有機(jī)發(fā)光二極管蒸鍍機(jī)臺64、真空蒸鍍裝置65、蒸鍍用掩模及其制造方法66、蒸鍍掩模及制法、顯示裝置及制法以及具有其的電子機(jī)器67、真空蒸鍍裝置、真空蒸鍍方法及獲得的有機(jī)電子熒光元件68、一種利用強(qiáng)電場的真空熱蒸鍍成膜方法69、除塵裝置、蒸鍍機(jī)臺及以其進(jìn)行清潔遮罩的方法70、一種利用強(qiáng)電場的真空熱蒸鍍成膜方法71、氧化鎂蒸鍍材料72、MgO蒸鍍材料及其制造方法73、卷繞式真空蒸鍍方法及卷繞式真空蒸鍍裝置74、免蒸鍍的硬式帶式自動(dòng)焊接封裝方法75、鋅蒸鍍薄膜及金屬化薄膜電容器76、金屬蒸鍍薄膜、其制造方法及使用它的電容器77、蒸鍍裝置78、真空蒸鍍設(shè)備用的蒸鍍裝置79、蒸鍍裝置80、陰極電弧蒸鍍方式淀積類金剛石碳膜的制備方法81、層壓薄膜和使用它的蒸鍍薄膜82、有機(jī)泡沫導(dǎo)電化處理的真空蒸鍍法及設(shè)備83、用于真空蒸鍍和有機(jī)電熒光器件的設(shè)備和方法84、彩色陰極射線管及其制造方法和蒸鍍用復(fù)合材料85、用于鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法86、蒸鍍用坩堝87、等離子體蒸鍍設(shè)備防止凝縮裝置88、利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法89、帶有磁鐵的等離子體的連續(xù)蒸鍍裝置90、真空蒸鍍用多面成形掩模裝置91、有機(jī)場致發(fā)光膜蒸鍍用蒸鍍源92、蒸鍍方法及蒸鍍裝置93、真空蒸鍍裝置及用該裝置制造有機(jī)EL顯示面板的方法94、電激發(fā)光元件的制造方法及蒸鍍遮罩95、電激發(fā)光顯示板的制造方法及蒸鍍遮罩96、利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝備的電極固定裝置97、一種用于半導(dǎo)體激光器腔面蒸鍍的非接觸固定方式的夾具98、真空電弧蒸鍍方法及裝置99、制作電致發(fā)光顯示器的、使用電磁鐵的蒸鍍裝置及采用此裝置的蒸鍍方法100、真空蒸鍍聚合裝置及采用該裝置的有機(jī)被膜的形成方法101、CVD用原料化合物及銥或銥化合物薄膜的化學(xué)氣相蒸鍍方法102、真空蒸鍍用掩模和用該掩模制造的有機(jī)電致發(fā)光顯示面板103、CVD用原料化合物以及釕或釕化合物薄膜的化學(xué)氣相蒸鍍方法104、蒸鍍方法及顯示裝置的制造方法105、用于生產(chǎn)中折射率光學(xué)涂層的蒸鍍用材料106、一氧化硅蒸鍍材料及其制造方法、制造原料和制造裝置107、一種用于熱浸涂鍍及真空蒸鍍的兩用連續(xù)涂鍍設(shè)備108、蒸鍍用的氧化釔組成物及反射防止膜的制造方法109、用于生產(chǎn)高折射率光學(xué)涂層的蒸鍍用材料110、一種化合物半導(dǎo)體銻化銦薄膜真空蒸鍍方法111、在光學(xué)基片上蒸鍍鍍膜的真空鍍膜設(shè)備112、在光學(xué)基片上蒸鍍鍍膜的方法113、蒸鍍方法及顯示裝置的制造方法