A96771 離子鍍技術(shù)專利全文專輯 （本輯280元，含下列49項(xiàng)）（特別提示：本站的專利文獻(xiàn)均已被編成word格式，這在業(yè)內(nèi)獨(dú)樹一幟。）01、真空電弧離子鍍制備鎳鉻復(fù)合鍍層的設(shè)備及方法02、一種用于顆粒表面改性的等離子鍍膜裝置03、高速縫紉機(jī)針桿離子鍍GIC鍍層實(shí)現(xiàn)無油化的處理方法04、高速縫紉機(jī)旋梭離子鍍GIC鍍層實(shí)現(xiàn)無油化的處理方法05、磁控濺射與多弧離子鍍復(fù)合式真空鍍膜方法06、稀土離子滲氮-稀土離子鍍復(fù)合涂層的連續(xù)式合成方法07、一種不銹鋼基體上離子鍍TiAlN涂層的化學(xué)去除方法08、氮離子束輔助電弧離子鍍沉積TiAlN膜層新工藝09、質(zhì)子交換膜燃料電池不銹鋼雙極板離子鍍膜改性方法10、低溫離子鍍制備金屬基潤(rùn)滑薄膜的方法11、一種真空多弧離子鍍膜機(jī)智能一體化控制器12、一種磁控濺射離子鍍方法13、采用多弧離子鍍制備(TiAlZr)N超硬涂層的方法14、釹鐵硼磁體表面磁控電弧離子鍍不銹鋼防護(hù)層的方法15、多弧離子鍍鈦鋁鉻硅釔氮化物多組元超硬反應(yīng)膜的制備方法16、白寶石的多弧離子鍍金屬化17、汽輪機(jī)低壓末級(jí)葉片表面復(fù)合離子鍍膜方法18、多弧等離子鍍膜工藝19、一種配置氣體離子源的真空離子鍍膜機(jī)20、黃銅件真空離子鍍替代電鍍方法21、霍爾源激勵(lì)磁控濺射增強(qiáng)型多弧離子鍍膜方法22、脈沖偏壓電弧離子鍍鈦/氮化鈦納米多層超硬薄膜的方法23、中央多弧源式離子鍍方法24、使用陰極電弧離子鍍技術(shù)對(duì)錫焊潤(rùn)濕性的處理方法25、低壓反應(yīng)離子鍍方法制備碳鍺合金膜26、一種對(duì)靶孿生磁控濺射離子鍍沉積裝置27、一種電弧離子鍍低溫沉積高質(zhì)量裝飾薄膜的設(shè)備和方法28、電弧離子鍍?cè)O(shè)備29、離子鍍稀土改性涂層中稀土的加入方法30、一種陶瓷制品的多弧離子鍍膜方法31、高能級(jí)磁控濺射離子鍍技術(shù)32、用于離子鍍膜的冷U陰極裝置33、等離子體加速器法離子鍍膜裝置34、一種鋼鐵表面離子鍍固體潤(rùn)滑膜的方法35、磁控電弧離子鍍膜法36、摻金離子鍍氮化鈦技術(shù)及設(shè)備37、碳氮化鈦系列鍍層離子鍍工藝38、離子鍍膜裝置39、離子鍍裝置40、用于海軍航空發(fā)動(dòng)機(jī)壓氣機(jī)葉片的離子鍍TiAlN涂層41、氣相離子鍍膜方法與其裝置42、多弧離子鍍合金涂層的制備方法43、可防止浪費(fèi)蒸發(fā)材料的離子鍍膜裝置44、離子鍍膜前工件處理工藝及除油、去污清洗劑45、電弧型離子鍍裝置46、電弧離子鍍沉積氮化鈦鈮超硬質(zhì)梯度薄膜技術(shù)47、電弧離子鍍沉積氮化鈦鈮硬質(zhì)薄膜技術(shù)48、離子鍍?cè)O(shè)備和離子鍍方法49、陰極電弧離子鍍的新應(yīng)用