氣體質(zhì)量流量控制器MFC3030A，采用毛細管傳熱溫差量熱法原理測量氣體的質(zhì)量流量，無需溫度壓力補償。氣體質(zhì)量流量控制器MFC3030A是一個可以手動設(shè)定或與電腦連接自動控制的氣體流量的穩(wěn)流裝置，能在較寬的量程范圍內(nèi)快速而精確地控制氣體流量。即使系統(tǒng)壓力有波動或環(huán)境溫度有輕微的變化，也不會影響其正常的工作。 氣體質(zhì)量流量控制器MFC3030A產(chǎn)品亮點： -類 型：MFC氣體質(zhì)量流量控制器-控制范圍：10sccm～30slpm (sccm:標準毫升/分slpm:標準升/分) -準度等級: 1%F.S-耐 壓： 90bar-標準接口：0-5VDC，4-20mA可選-響應(yīng)時間： 2sec-使用范圍：2~100%formaxrange -供電電源：+15~+28Vdc,350Ma-漏 率：1 10-9atm cc/sec-氣路連接：1/4 SWG，1/8 SWG，3/8 SWG，1/4 VCR-適用介質(zhì)：所有氣體（含腐蝕性氣體和有毒氣體）-無需溫度、壓力補償 氣體質(zhì)量流量控制器MFC3030A 產(chǎn)品型號MFC3030VMFC3030A 流量范圍(N2) 10sccm～30slpm 10sccm～30slpm 響應(yīng)時間 2秒 2秒 準確度 1%滿量程 1%滿量程 重復(fù)精度 0.25%滿量程 0.25%滿量程 輸出輸入信號 0~5Vdc 0~5Vdc或4~20毫安 供電 +15~+28Vdc，350毫安 +15~+28Vdc，350毫安 耐壓 90bar 90bar 工作環(huán)境溫度 0~50 C 0~50 C 應(yīng)用領(lǐng)域：－分析儀器 －干刻（RIE/DRIE） －燃料電池－生物技術(shù) －氣相色譜分析 －等離子刻蝕－激光焊機 －混氣配氣系統(tǒng) －微反應(yīng)裝置－真空鍍膜 －過程自動化 －石化工業(yè)氣體質(zhì)量流量控制器產(chǎn)品概述氣體質(zhì)量流量控制器，即MassFlowController(縮寫為MFC )，是一個可以手動設(shè)定或與電腦連接自動控制的氣體穩(wěn)流裝置，能在較寬的量程范圍內(nèi)快速而精確地控制氣體流量。即使系統(tǒng)壓力有波動或環(huán)境溫度有輕微的變化，也不會影響其正常的工作。原則上不需要溫度和壓力補償。 （1）氣體流量的測量和控制不因溫度或壓力的波動而失準。 對于多數(shù)氣體流量測控系統(tǒng)而言，很難避免系統(tǒng)的壓力波動及環(huán)境和介質(zhì)的溫度變化。對于普通的測量儀器，壓力及溫度的波動將導(dǎo)致較大的誤差；對于氣體質(zhì)量流量控制器，則一般可以忽略不計。 （2）氣體測量控制的自動化 氣體質(zhì)量流量控制器可以將氣體流量測量值以輸出標準電信號輸出。這樣很容易實現(xiàn)對流量的數(shù)字顯示、累計流量自動計量、數(shù)據(jù)自動記錄、電腦管理等，還可以實現(xiàn)流量的自動控制。本產(chǎn)品的電子訊號控制方式為模擬式的（Analogtype），輸入輸出信號為0~+5V或4~20mA. （3）可精確地定量控制流量 氣體質(zhì)量流量控制器可以精確地控制氣體的給定量，這對很多工藝過程的流量控制、對于不同氣體的比例控制等特別管用。 （4）適用范圍廣泛 有很寬的工作壓力范圍，產(chǎn)品可以從真空直到10MP；本產(chǎn)品可以使用多種氣體介質(zhì)（包括一些腐蝕性氣體，如三氟化硼、三氯化硼、氯化氫、氟化氫等等）；有很寬的流量范圍，產(chǎn)品最小流量范圍可達0~10sccm，最大流量范圍可達0~30slpm。流量控制范圍是滿量程的2~100%（量程比為50：1）。 （5）連接方法本產(chǎn)品的輸出信號是模擬的（0-5Vdc或4-20mA），不可以與電腦直接相連，一般需要在電腦上配A/D、D/A轉(zhuǎn)換板，也可以通過流量顯示儀和MFC相連。將模擬/數(shù)字轉(zhuǎn)換用于接收流量測量值，數(shù)字/模擬轉(zhuǎn)換用于給出0-5Vdc或4-20mA流量設(shè)定信號，這種轉(zhuǎn)換板在工業(yè)控制產(chǎn)品市場上很容易買到； 二、用途和特點氣體質(zhì)量流量控制器（MFC）在石化工業(yè)、生化、半導(dǎo)體和集成電路工業(yè)、特種材料學(xué)科、醫(yī)藥、蔬果保鮮、加氣飲料、環(huán)保和真空等多種領(lǐng)域的科研和生產(chǎn)中有著中重要的應(yīng)用。其典型的場合包括：電子工藝設(shè)備，如：氧化、CVD、MOCVD、擴散、外延、等離子刻蝕、離子注入、濺射、以及微反應(yīng)裝置、混氣配氣系統(tǒng)、真空鍍膜設(shè)備、光纖熔煉、氣相色譜儀及其他分析儀器。