裝置包括可拆卸的濺射腔體、濺射靶臺、真空抽氣系統(tǒng)、測量系統(tǒng)、進(jìn)氣系統(tǒng)等部分組成。 本實(shí)驗(yàn)采用同軸二極濺射結(jié)構(gòu)，在真空室內(nèi)以沉積材料為陰極，加工樣品為陽極，工作期間兩極間加直流電壓引起放電，放電氣體中的離子被加速轟擊靶面，濺射粒子沉積在基片表面成膜。 可以完成光學(xué)薄膜材料的制備及其光學(xué)特性的測量、金屬薄膜的制備等實(shí)驗(yàn)。通過這些實(shí)驗(yàn)可讓實(shí)驗(yàn)者理解直流濺射原理，掌握直流濺射薄膜材料的工藝方法。 ◆濺射靶臺和濺射靶距離可調(diào)節(jié)，研究在不同距離時(shí)對薄膜濺射的影響?！魹R射基片可進(jìn)行加熱，加熱溫度可控，研究基片溫度對薄膜濺射的影響?！魹R射氣壓、濺射氣源流量可調(diào)節(jié)，研究不同氣壓、氣源流量對薄膜濺射的影響?！舴磻?yīng)腔體采用石英玻璃管，可直觀地觀察到濺射現(xiàn)象。◆工作氣體可調(diào)節(jié)更換，并可多路氣體混合工作。 1、濺射腔體外形尺寸：Ф140mm 150mm。2、濺射靶臺：Ф70mm 20mm。3、濺射靶臺和濺射靶可調(diào)距離：10～50mm。4、基片加熱溫度可控范圍：室溫～80℃。5、濺射氣壓可調(diào)范圍：10Pa～200Pa。6、濺射電壓：0V～1000V連續(xù)可調(diào)。7、濺射電流：0～200mA可測。8、氣源流量可控范圍：6～60ml/min； 25～250ml/min。9、供電電源:AC220V,50Hz,10、整機(jī)功率1.5KW。